Формирование высокоаспектных микроструктур на тетраакрилат/акриламидных мономерах под действием синхротронного излучения

Формирование высокоаспектных микроструктур на тетраакрилат/акриламидных мономерах под действием синхротронного излучения Научная публикация

Журнал

Химия высоких энергий (HIGH ENERG CHEM+ )
ISSN: 0023-1193

Вых. Данные

Год: 2019, Том: 53, Номер: 2, Страницы: 127-134 Страниц : 8 DOI: 10.1134/S0023119319020049

Авторы

Деревянко Дмитрий Игоревич , Орлова Наталья Алексеевна , Шелковников Владимир Владимирович , Шундрина Инна Казимировна , Гольденберг Борис Григорьевич , Корольков Виктор Павлович

Организации

1	Новосибирский институт органической химии им. Н.Н. Ворожцова СО РАН
2	Новосибирский государственный технический университет
3	Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения Российской академии наук
4	Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт автоматики и электрометрии Сибирского отделения Российской академии наук

Деревянко Д.И. , Орлова Н.А. , Шелковников В.В. , Шундрина И.К. , Гольденберг Б.Г. , Корольков В.П.
Формирование высокоаспектных микроструктур на тетраакрилат/акриламидных мономерах под действием синхротронного излучения
Химия высоких энергий (HIGH ENERG CHEM+ ). 2019. Т.53. №2. С.127-134. DOI: 10.1134/S0023119319020049 РИНЦ OpenAlex

Derevyanko D.I. , Orlova N.A. , Shelkovnikov V.V. , Shundrina I.K. , Goldenberg B.G. , Korolkov V.P.
Fabrication of High-Aspect-Ratio Microstructures on Tetraacrylate/Acrylamide Monomers Using Synchrotron Radiation
High Energy Chemistry. 2019. V.53. N2. P.136-142. DOI: 10.1134/S0018143919020048 WOS Scopus РИНЦ OpenAlex

РИНЦ:	36788795
OpenAlex:	W2912523057

БД	Цитирований
РИНЦ	2