Формирование высокоаспектных микроструктур на тетраакрилат/акриламидных мономерах под действием синхротронного излучения

Формирование высокоаспектных микроструктур на тетраакрилат/акриламидных мономерах под действием синхротронного излучения Full article

Journal

Химия высоких энергий (HIGH ENERG CHEM+ )
ISSN: 0023-1193

Output data

Year: 2019, Volume: 53, Number: 2, Pages: 127-134 Pages count : 8 DOI: 10.1134/S0023119319020049

Authors

Derevyanko Dmitrii Igorevich , Orlova Natalʹya Alekseevna , Shelkovnikov Vladimir Vladimirovich , Shundrina Inna Kazimirovna , Goldenberg Boris G. , Korolkov Viсtor P.

Affiliations

1	N.N. Vorozhtsov Novosibirsk Institute of Organic Chemistry of Siberian Branch of Russian Academy of Sciences
2	Novosibirsk State Technical University
3	Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения Российской академии наук
4	Institute of Automation and Electrometry SB RAS

Деревянко Д.И. , Орлова Н.А. , Шелковников В.В. , Шундрина И.К. , Гольденберг Б.Г. , Корольков В.П.
Формирование высокоаспектных микроструктур на тетраакрилат/акриламидных мономерах под действием синхротронного излучения
Химия высоких энергий (HIGH ENERG CHEM+ ). 2019. Т.53. №2. С.127-134. DOI: 10.1134/S0023119319020049 РИНЦ

Derevyanko D.I. , Orlova N.A. , Shelkovnikov V.V. , Shundrina I.K. , Goldenberg B.G. , Korolkov V.P.
Fabrication of High-Aspect-Ratio Microstructures on Tetraacrylate/Acrylamide Monomers Using Synchrotron Radiation
High Energy Chemistry. 2019. V.53. N2. P.136-142. DOI: 10.1134/S0018143919020048 WOS Scopus РИНЦ

Elibrary	36788795
OpenAlex	W2912523057