Получение электропроводящих структур электрохимическим осаждением меди на подложках анодированного алюминия при использовании полифторхалконов в качестве фоторезистного слоя

Получение электропроводящих структур электрохимическим осаждением меди на подложках анодированного алюминия при использовании полифторхалконов в качестве фоторезистного слоя Full article

Journal

Микроэлектроника
ISSN: 0544-1269

Output data

Year: 2020, Volume: 49, Number: 3, Pages: 186-197 Pages count : 12 DOI: 10.31857/S0544126920020027

Authors

Derevyashkin Sergei Vladimirovich ^1,2 , Soboleva Elena Aleksandrovna ¹ , Shelkovnikov Vladimir Vladimirovich ^1,3

Affiliations

1	N.N. Vorozhtsov Novosibirsk Institute of Organic Chemistry of Siberian Branch of Russian Academy of Sciences
2	Institute of Laser Physics SB RAS
3	Novosibirsk State Technical University

Деревяшкин С.В. , Соболева Е.А. , Шелковников В.В.
Получение электропроводящих структур электрохимическим осаждением меди на подложках анодированного алюминия при использовании полифторхалконов в качестве фоторезистного слоя
Микроэлектроника. 2020. Т.49. №3. С.186-197. DOI: 10.31857/S0544126920020027 РИНЦ

Derevyashkin S.V. , Soboleva E.A. , Shelkovnikov V.V.
Obtaining Electrically Conductive Structures by Electrochemical Deposition of Copper onto Substrates of Anodized Aluminum Using Polyfluorochalcones as a Photoresist Layer
Russian Microelectronics. 2020. V.49. N3. P.173-183. DOI: 10.1134/S106373972002002X Scopus РИНЦ

Elibrary	42636291
OpenAlex	W3020030353