Получение электропроводящих структур электрохимическим осаждением меди на подложках анодированного алюминия при использовании полифторхалконов в качестве фоторезистного слоя

Получение электропроводящих структур электрохимическим осаждением меди на подложках анодированного алюминия при использовании полифторхалконов в качестве фоторезистного слоя Научная публикация

Журнал

Микроэлектроника
ISSN: 0544-1269

Вых. Данные

Год: 2020, Том: 49, Номер: 3, Страницы: 186-197 Страниц : 12 DOI: 10.31857/S0544126920020027

Авторы

Деревяшкин Сергей Владимирович ^1,2 , Соболева Елена Александровна ¹ , Шелковников Владимир Владимирович ^1,3

Организации

1	Новосибирский институт органической химии им. Н.Н. Ворожцова СО РАН
2	Института лазерной физики СО РАН
3	Новосибирский государственный технический университет

Деревяшкин С.В. , Соболева Е.А. , Шелковников В.В.
Получение электропроводящих структур электрохимическим осаждением меди на подложках анодированного алюминия при использовании полифторхалконов в качестве фоторезистного слоя
Микроэлектроника. 2020. Т.49. №3. С.186-197. DOI: 10.31857/S0544126920020027 РИНЦ

Derevyashkin S.V. , Soboleva E.A. , Shelkovnikov V.V.
Obtaining Electrically Conductive Structures by Electrochemical Deposition of Copper onto Substrates of Anodized Aluminum Using Polyfluorochalcones as a Photoresist Layer
Russian Microelectronics. 2020. V.49. N3. P.173-183. DOI: 10.1134/S106373972002002X Scopus РИНЦ

РИНЦ	42636291
OpenAlex	W3020030353